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几种真空镀加工技术
发布时间：2018-07-31 16:43:57点击率：
几种真空镀加工技术
几种真空镀加工技术：1、蒸发镀膜设备与技术 真空蒸发镀膜设备主要用于在经予处理的塑料、陶瓷等制品表面蒸镀金属薄膜（镀铝、铬、锡、不锈钢等金属）、七彩膜仿金膜等,从而获得光亮、美观、价廉的塑料,陶瓷表面金属化制品。广泛应用于工艺美术、装璜装饰、灯具、家具、玩具、酒瓶盖、女式鞋后跟等领域, JTPZ多功能镀膜技术及设备（加有射频等离子体聚合的蒸发镀膜机），针对汽车、摩托车灯具而设计的，在一个真空室内完成蒸发镀铝和射频等离子体镀保护膜，这种镀膜后灯具具有“三防”功能。射频等离子体聚合膜还应用于光学产品、磁记录介质、军事国防保护膜；防潮增透膜；防锈抗腐蚀；耐磨增硬膜。 用户选择在灯具基体上喷底漆、镀铝膜、镀保护膜或灯具基体在真空室进行前处理（不喷底漆）、镀铝膜、镀保护膜工艺。
2、真空镀加工的等离子扩渗镀膜设备及技术；离子渗氮：可以在辉光放电条件下，将N、C等元素渗入到零件和模具内部、明显提高表面硬度、抗疲劳等性能和耐腐蚀性，相对于总体渗氮处理时间短、湿度低、变形小、表面性能可控，可用于各种钢铁及钛合金结构件，各种模具和各种不锈钢制品。 等离子体化学气相沉积设备与技术(离子渗氮，氮碳共渗) 等离子体化学气相沉积（PCVD）是一种新型的脉冲直流等离子体辅助沉积硬质镀膜新技术。在一定压力、温度的真空炉内，加入适当比例的不同工作气体，在脉冲电压的作用下，通过辉光放电产生均匀等离子体。在不同工艺条件下，可在被处理工件表面形成各种硬质膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多层复合膜等，显微硬度高达HV2000--2500。与CVD和PVD相比，PCVD技术可实现离子渗氮、渗碳和镀膜在同一炉内依次进行，高效率地实现渗透复合工艺。该设备适用于要求提高表面耐磨损、耐腐蚀、抗高温氧化、抗疲劳的零部件和工模具。被处理材料主要包括：高速钢、冷热钢、冷热模具钢、结构钢、不锈钢、钛合金、硬质合金等。
几种真空镀加工技术：1、蒸发镀膜设备与技术 真空蒸发镀膜设备主要用于在经予处理的塑料、陶瓷等制品表面蒸镀金属薄膜（镀铝、铬、锡、不锈钢等金属）、七彩膜仿金膜等,从而获得光亮、美观、价廉的塑料,陶瓷表面金属化制品。广泛应用于工艺美术、装璜装饰、灯具、家具、玩具、酒瓶盖、女式鞋后跟等领域, JTPZ多功能镀膜技术及设备（加有射频等离子体聚合的蒸发镀膜机），针对汽车、摩托车灯具而设计的，在一个真空室内完成蒸发镀铝和射频等离子体镀保护膜，这种镀膜后灯具具有“三防”功能。射频等离子体聚合膜还应用于光学产品、磁记录介质、军事国防保护膜；防潮增透膜；防锈抗腐蚀；耐磨增硬膜。 用户选择在灯具基体上喷底漆、镀铝膜、镀保护膜或灯具基体在真空室进行前处理（不喷底漆）、镀铝膜、镀保护膜工艺。
2、真空镀加工的等离子扩渗镀膜设备及技术；离子渗氮：可以在辉光放电条件下，将N、C等元素渗入到零件和模具内部、明显提高表面硬度、抗疲劳等性能和耐腐蚀性，相对于总体渗氮处理时间短、湿度低、变形小、表面性能可控，可用于各种钢铁及钛合金结构件，各种模具和各种不锈钢制品。 等离子体化学气相沉积设备与技术(离子渗氮，氮碳共渗) 等离子体化学气相沉积（PCVD）是一种新型的脉冲直流等离子体辅助沉积硬质镀膜新技术。在一定压力、温度的真空炉内，加入适当比例的不同工作气体，在脉冲电压的作用下，通过辉光放电产生均匀等离子体。在不同工艺条件下，可在被处理工件表面形成各种硬质膜如TiN、TiC、TiCN、(Ti、Si)N、(Ti、Si)CN及多层复合膜等，显微硬度高达HV2000--2500。与CVD和PVD相比，PCVD技术可实现离子渗氮、渗碳和镀膜在同一炉内依次进行，高效率地实现渗透复合工艺。该设备适用于要求提高表面耐磨损、耐腐蚀、抗高温氧化、抗疲劳的零部件和工模具。被处理材料主要包括：高速钢、冷热钢、冷热模具钢、结构钢、不锈钢、钛合金、硬质合金等。
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